日立電線、青紫色レーザー用2インチ窒化ガリウム基板を開発

●日立電線（株）は、Blu-ray Disc等の次世代光ディスクに用いられる青紫色レーザー用の2インチ直径低欠陥単結晶窒化ガリウム（GaN）基板の開発に成功し、サンプル製造、販売を開始する。

Blu-ray Discなどで用いられる青紫色レーザーを製造するための基板として、レーザー素子の信頼性向上、生産歩留まり向上の観点から、2インチ直径の低欠陥なフリースタンディング単結晶GaN基板の早急な実用化が求められており、本製品はその需要に応えるもの。

同社は、フリースタンディングGaN基板の画期的な製法として、ボイド形成剥離法と命名した新規技術を開発し、2インチ直径の低欠陥フリースタンディングGaN基板の開発に成功した。

このVAS法は、サファイア基板とGaN成長層との間に、網目構造を有する窒化チタンの薄膜を挟み込んで結晶成長を行う。このとき、窒化チタン膜の界面にミクロンオーダーの微小なボイド（空隙）を多数形成し、GaN結晶にダメージを与えることなく、大面積のGaN結晶を簡単に剥離させることを可能にした。本技術は２インチ直径GaN基板の製法として非常に再現性がよく、将来の大型化も可能となる。
　
同社では、この2インチGaN基板サンプルの生産、販売を2003年春から開始する予定。また、2004年中には、同社高砂工場において月産300枚の生産体制確立を目指す。（Phile-web編集部）